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Cleaner主要產品概要

清潔產品面向高精細化和高功能化的顯示屏、半導體及電子器件市場以日本化藥獨有的開發(fā)力為武器，目前已擁有優(yōu)越性能的產品陣容，對電子工業(yè)產業(yè)整體的發(fā)展作出貢獻。

當前，產品已被顯示領域與半導體領域的廠商所廣泛使用。

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液 晶

適用于 LCD 彩色濾光片的顯影液產品系列。 運用獨特的濃縮技術與表面活性劑最優(yōu)化配比技術，對于細微的 BM 顯影，也可實現(xiàn)良好的顯影性。

（1）HAC：混合了活性劑的負膠型顯影液，用于LCD彩色濾光片RGB的光刻膠。通過表面活性劑的效果，可以實現(xiàn)細線寬的顯影。可改善顯影效果偏差。

（2）DX：混合了活性劑的負膠型顯影液，用于RGB。擁有優(yōu)異的顯影性能，由于是高濃縮型，因此可減少藥劑的使用量。產品屬于有機堿類，因此對金屬的腐蝕性弱，可對應COA（Color Filter On Array）型制程。

用于制程返工的剝離液。具有極低的對玻璃刻蝕速率，可對應RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS等各種抗試劑，剝離性能強。

一種有機型清洗液，適合去除輕油及油脂、磨料、薄膜浮垢、廢紙塵埃等各種污漬 。

半 導 體
我們擁有應對于高精細光刻工藝的各種顯影液、剝離液的產品。此外還包括在WLP工藝中使用的厚膜負性光刻膠以及干膜光刻膠用剝離液、干式蝕刻后殘渣去除液等。還可以提供符合各種法律規(guī)定的產品以及不含NMP等環(huán)境友好型的藥液。

用于圖像傳感器的彩色濾光片、以及用于鋁布線防腐蝕功能的TMAH型產品系列。

混合了有機堿和活性劑的負膠/正膠型顯影液。用于半導體和分立器件的制造工藝。選用可以優(yōu)化光刻膠分散性的活化劑，不會在圖形上留下光刻膠殘留物，并且可以去除因光刻膠引起的細小氣泡，可直接進入下一道工序。

（1）常規(guī)級光刻膠用剝離液

         NK poleve 517

         NK poleve PRS100

用于去除常規(guī)的液態(tài)光刻膠。

（2）高性能光刻膠剝離液

         NK  poleve 496

         NK  poleve 480

可去除DRIE等工藝對應改性變質的光刻膠，厚膜型液態(tài)光刻膠也可對應。

（3）干膜用剝離液

         NK poleve 117

         NK poleve SH

專門用于去除干膜的剝離液產品系列。